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オゾン発生・分解装置に関する用語集|設計・生産技術者・保全技術者のためのオゾン発生装置、オゾン分解装置に関する技術情報サイト

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HOME > オゾン発生・分解装置に関する用語集

用語 意味
オゾン濃度(気相)
mg/l
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの質量〔mg〕/オゾンを含む気体の体積〔l〕  
オゾン濃度(気相) 
g/m3
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの質量〔g〕/オゾンを含む気体の体積〔m3〕
オゾン濃度(気相) 
wt %
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの質量/オゾンを含む気体の体積 ×100〔%〕
オゾン濃度(気相) 
vol %
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの占める体積/オゾンを含む気体の体積 ×100〔%〕
オゾン濃度(気相) 
vol ppm
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの占める体積〔cm3〕/オゾンを含む気体の体積〔m3〕
オゾン濃度(気相) 
mol/m3
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンのモル数〔mol〕/オゾンを含む気体の体積〔m3〕
オゾン濃度(液相) 
mg/l
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの質量〔mg〕/オゾンを含む溶液の体積〔l〕   
オゾン濃度(液相) 
g/m3
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの質量〔g〕/オゾンを含む溶液の体積〔m3〕
オゾン濃度(液相) 
mol/m3
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンのモル数〔mol〕/オゾンを含む溶液の体積〔m3〕
オゾン濃度(液相) 
wt ppm
オゾン濃度の単位の一つ、オゾンの質量/オゾンを含む溶液の質量 ×106
パージメーター
(流量計)
テーパーのついた管の内部の浮き子(フロート)の高さで流量を計測するものです。
マスフローメーター 気体の質量流量を計測する流量計の一種。熱線から奪われる熱量から測定するサーマル式が一般的である。
レギュレーター
(減圧弁)
二次側(下流側)の圧力を調節するバルブです。
無声放電 平行電極間に誘電体を設けこの間に酸素ガス、乾燥空気等を供給し、両極間に交流高電圧を印加する際に観察される放電現象です。
沿面放電 誘電体を挟んで片側に面電極、もう一方に線電極を放電電極、面電極を誘電電極と呼び、この両電極間に交流高電圧を印加すると、放電電極と誘電体の間で放電します。線電極の周囲に沿って放電が観察されます。
オゾン発生器 オゾンを発生させるための装置です。発生方式としては、紫外線式、電器分解式、放電式等があります。
オゾン分解
(熱分解法)
燃焼式とヒーター式がり、ともに300〜350℃では、1〜3秒以上処理すれば十分である。500℃では、0.5〜0.6秒で100%分解される。
オゾン分解
(薬液洗浄法)
水酸化ナトリウム(15%)溶液では、20%のオゾンを分解できる。
オゾン分解
(活性炭法)
オゾンは活性炭と反応し分解される。炭素が酸化されて炭酸ガス、一酸化炭素が生成され、熱が生成する。オゾンは活性炭の細孔内に吸着され、その量は活性炭の自重の1〜1.4倍といわれる。
オゾン分解
(触媒法)
触媒を用いてオゾンの自己分解反応の活性化エネルギーを低下させると、低温でもオゾン分解が可能となる。オゾン分解触媒としては、二酸化マンガンが優れ、40℃で活性が最大となる。二酸化マンガン系の触媒は、オゾン分解効率が高いため広く利用されている。
オゾン分解
(紫外線法)
紫外線の波長には、オゾンを発生する波長とオゾンを分解する波長があり、その分解波長を利用してオゾン分解を行なう。気相・液相両方で使用可能だが、光が届かないところは分解できない。
オゾン水 オゾンを水に溶け込ませた水自体に殺菌力のある水をオゾン水といいます。オゾン水は水と空気からできており、なんの添加物もしようしておらず、オゾン自体が非常に不安定な物質であるため残留性がありません。
エジェクター ポンプなどの機械駆動を用いることなしに主流体(気体または液体)に空気や炭酸ガスなどの気体(または液体)を瞬時に混ぜ合わせることができる装置。
スタティックミキサー 駆動部のない静止型混合器(ラインミキサー)です。ミキサー内に入った流体は、エレメントにより順次撹拌混合されます。スタティックミキサーは分割・転換・反転の作用により流体を効果的に混合します。
散気装置
(散気管)
散気装置は圧縮空気を気泡にする装置です。ディフューザーとも言います。ばっ気槽、接触ばっ気槽等の生物反応槽では、これによって活性汚泥や接触材に付着した生物膜に酸素が供給されるとともに、槽内が混合攪拌されます。
テフロン テフロンは、乳白色ロウ状の樹脂で、棒状にすれば硬く、薄い板にすれば甚だ屈曲性にとんだゴムと金属の中間的物性です。
他の合成樹脂と比較して、全く特異な性状を持っており、したがってその用途もきわめて広範囲であります。フッ素系樹脂はPTFE=ポリテトラフルオロエチレン(4フッ化)、PFA=テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、FEP=テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(4.6フッ化)、ETFE=テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体、PVDF=ポリビニリデンフルオライド(2フッ化)、PCTFE=ポリクロロトリフルオロエチレン(3フッ化)等があります。
ニトリルゴム
(NBR)
商品名としてはブナN、ハイカー、ニポールNBR等があり、耐油性、耐耗性、耐化性が良いゴム材です。
水素化ニトリルゴム
(HNBR)
商品名としてはゼットポール、スーパーラバー等があり、NBRの耐熱性、耐侯性を向上させたゴム材です。
フッ素ゴム
(FKM)
商品名としてはバイトン、ダイエル、テクノフロン、ダイニオン等があり、高度の耐熱性と耐薬品性をもっているゴム材です。
シリコーンゴム
(VMQ)
商品名としてはシリコンがあり、高度の耐熱性と耐寒性をもっているゴム材です。
ステンレス鋼 鉄の6大元素と、クロム・ニッケルの合金で、さびにくい鋼と表現されています。
ステンレス鋼は、表面に「酸化被膜」という薄い膜を形成し、それが安定して変化しない状態を保っています。
SUSと書き、呼びとしては「サス」「エス・ユー・エス」と呼ばれています。
SUS304は18%のCrと8%のNiを含むステンレス鋼で、通常「ジュウハチハチ」と呼ばれています。
SUS316は18%のCrと12%のNiを含み、それにモリブデン(Mo)を添加して耐食性、耐孔食性をさらに向上させたステンレス鋼です。
アッシング アッシングとは、エッチングの後、不要となったフォトレジストをプラズマなどで反応させて気相中で分解・除去するレジスト剥離のこと。またその装置をアッシャー(レジスト剥離装置)と呼ぶ。オゾンやガス等のガスを導入したアッシング室内で、紫外線等の光を照射してガスとレジストの化学反応を使っレジスト剥離をする光励起アッシングと、ガスを高周波等でプラズマ化し、そのプラズマを利用してレジストを剥離するプラズマアッシングの2つに大別される。
フォトレジスト フォトレジストとは、露光・現像の原理(銀塩写真と同じ)により微細加工を行うフォトリソグラフィで使用する、光で感光する樹脂材料のこと。作成したいパターンで露光すると、光があたった部分の樹脂だけが化学的に変化し、現像液に対する溶解度の差により露光と同じパターンのレジストが形成される。露光した部分が残るネガ型と、露光されなかった部分が残るポジ型がある。性状としては液状タイプとフィルム状のものがあり、半導体製造、フラットパネルディスプレイ製造、プリント基板製造などに使用される。
エッチング エッチングとは、金属の表面や形状を、化学的あるいは電気化学的に溶解除去し、それを表面処理を含めた広義の加工技術とすることである。エッチングはすなわち化学加工の一種であり、主に金属表面に希望のパターン形状を得るために行われる。  エッチングの代表的な例としては電子回路のパターン製造がある。ベークライトやグラスファイバー板の表面に銅箔を張ったプリント基板上に、回路部分をマスキングして強酸のエッチング液に浸けると、銅箔のマスキングされていない部分はエッチング液の化学作用により溶け、マスキングされた部分が銅回路として残る。 LSI(集積回路)など回路パターンが微細なものは、シリコンやガラス基板の上に蒸着などで生成された金属薄膜上に、フォトレジストと呼ばれる感光性の樹脂を塗布し、これに回路パターンを感光させる。フォトレジストは感光後現像することで、感光した部分を残し回路形状が得られるので、これをエッチング液で処理することによりフォトレジストの無い部分は溶け、回路が得られる。ブラウン管のシャドウマスクなども同様に、ステンレス薄板などをエッチング処理して作られる。こうしたエッチング方法をフォトエッチングと呼ぶ。
蒸着 金属または非金属材料を高真空中で加熱等により蒸発させて、ガラス、水晶板、へき開した結晶などの基板表面に薄膜として凝着させること。 物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)に大別される。
コンプレッサ 低圧フロン冷媒ガスを吸入して圧縮し、高圧高温のガスとして吐出する。機械的圧縮方式の違いから、レシプロ式、ロータリー式、スクリュー式等の種類に分けられる。
チラー 水や熱媒体の液温を管理しながら循環させることで、様々な種類の産業機器、計測機器、食品加工機器、理化学機器などの温度を一定に保つための装置の総称。 主に冷却に用いる場合が多いことから「chiller(chill=冷やす)」と呼ばれるが、実際には冷やすだけでなく温めることもあり温度域は様々。
クーリングタワー 建築物の屋上などの外部に設置され、空気調和用などの冷却水を再循環使用するために熱を放散させる装置。冷却塔。
揚程 ポンプが水をあげる高さをいう。俗に「ポンプヘッド」ともいう。吸込み揚程(吸込み水面からポンプ中心までの高さ)+吐出し揚程(ポンプ中心から吐出し水面までの高さ)+吸込み水面から吐出し水面までの高さ=実揚程に管内やその他の摩擦損失水頭を加えたものを全揚程といい、通常これを「揚程」と称する
圧力損失 流体がパイプ内を流れる時に,そのパイプ内部と流体との間に摩擦抵抗が生じる。この抵抗に勝る力を圧力損失と言う。
過流ポンプ ケーシング内の羽根の高速回転により渦流を起こし、液体を吸上げ、押上げする形式のポンプの一種。「カスケードポンプ」とも呼ぶ。ピストン方式の容積ポンプに比べて、脈動が発生しないメリットがあるが、吐出量は少なく、1次側の水量の変動に左右されるという欠点もある。水質浄化、排水処理などに適応し、微細なエアを混入できる機種はバイオケミカルなどにも用いられる。
電磁弁 電磁の力によって開閉する弁のこと。ソレノイド弁、ソレノイドバルブとも呼ばれる。電磁石(ソレノイド)の磁力を使ってプランジャと呼ばれる鉄片を動かすことで弁が開閉する仕組み。モータ駆動の電動弁に比べて応答速度は速いが、全開か全閉のどちらかしか保持できないため、切替弁や方向制御弁とも呼ばれる。
フローセンサー、
フロースイッチ
流体の流量を監視する部品。フローセンサーはリニアに流量を計測する。フロースイッチは、一般に設定した流量になった時にスイッチを動作させるだけの機能を持ち、流量を計測する機能は持たない。
チェックバルブ ガス・液体の流れを常に一定方向に保ち、逆流を防止する機能をもつバルブのこと。「チャキバルブ」「逆止弁」とも呼ぶ。
レベルスイッチ 液体タンク内の液面位置を検出するためのスイッチのこと。色々な形式があるが、浮き子(フロート)が浮くことでリードスイッチ(磁気スイッチ)をON/OFFさせるタイプが一般的。
密度 単位体積当たりの物質の質量 。
粘度 流体の粘性の程度をあらわす値。せん断速度に対するせん断応力の比を粘度あるいは粘性係数という。一般にはP(ポアズ)あるいはその100分の1のcPで表すが,SI単位ではPa・s(=10P)で表す。
比抵抗 液体の電気絶縁性を示す数値で、単位は[Ω・cm]。純粋の場合の比抵抗を示す場合はDIレベルと呼ぶこともある。25℃の理論純水の比抵抗は18.3[Ω・cm]である。
導電率 液体の電気の通し易さを示す数値で、比抵抗とは逆数の関係にある。単位も抵抗[Ω]の逆数である[S](ジーメンス)を用いて、[S/m]で表す。25℃の理論純水の導電率は0.055[μS/m]である。
純水 不純物、イオン成分を除去した水のこと。不純物をろ過した後、さらにイオン交換樹脂でイオン分を除去することで得られる。理論上の比抵抗の限界値は、18.3Ω・cmであるが、実際にその数値までにすることは不可能なので、1〜10Ω・cm程度の水を純水と呼ぶことが多い。
白金測温抵抗体 金属は温度が高くなると電気抵抗が大きくなる性質がある。その性質が優れたものが白金(Pt:プラチナ)である。白金測温抵抗体はプラチナの細線をマイカ板やセラミックの巻き枠に巻き付け、白金の固有抵抗が温度の上昇と共に増加する性質を利用している。
熱電対 熱電対とは、異なる材質の2本の金属線を接続しただけの構造で、温度により熱起電力が生じるゼーベック効果を利用した、古くからある接触式温度センサの一種。ゼーベック効果とは、2本の金属線の2つの接点部に温度差があると電圧(熱起電力)が発生する現象で、1821年にドイツの物理学者ゼーベックが発見。熱電対は温度センサとして発生する電圧にまったく誤差がなく、構造がシンプル、比較的安価、金属の種類を選択することで低温から高温まで温度測定が可能、などの特長をもつ。種類としては、クロメル-アルメル(JIS規格の記号K)、銅-コンスタンタン(T)、鉄-コンスタンタン(J)、白金-白金ロジウム(R)などがある。
サーミスター 温度変化に対して電気抵抗の変化の大きい抵抗体のことである。この現象を利用し、温度を測定するセンサとしても利用される。センサとしては-50度から1000度まで測定ができる。
サーモスタット 加温もしくは冷却を制御することによって、対象物の温度を一定に保つための装置のこと。サーモスタット自体に加温機能、冷却機構があるのではなく、センサにより対象物の温度を測定し、加温・冷却機器を制御する。センシング機構には、バイメタルや形状記憶合金を用いた機械式検知方式、サーミスタによる電気式検知方式、熱電対による電気式検知などがある。
温度ヒューズ 周囲温度が上昇し、設定温度に達したとき溶断するヒユーズ。 過熱保護装置として使用されている安全装置。
SV値
(空間速度)
SV値(Space Velocity:空間速度). 主に吸着剤を充填したタイプのケミカルフィルタの 使用状態を表す値で、充填体積当りの通風量を示す。この数字が 小さい場合は、通風空気が吸着剤に接触する時間が長くなるためガス除去効率が 上がる。
ヒステリシス
(調整感度)
温調などのON/OFF制御において、PV値(現在値)がSV値(目標値)に非常に接近した状態になっていると、温調出力がON/OFFを繰り返すチャタリングが発生し、出力リレーや接続された機器に悪影響を与える場合がある。これを防ぐために、ONとOFFの動作に隙間を与え、制御を安定させる。これの動作隙間をヒステリシスと呼ぶ。
PID制御 温度センサーからの入力値(PV値)と設定温度(SV値)の温度差を比較して、P動作(比例動作)、I動作(積分動作)、D動作(微分動作)を組み合わせた温調出力を出す制御方法。出力は0〜100%
オートチューニング PID制御において、P、I、D、各パラメータはその循環回路の接続された全ての部分の熱容量などのバランスにおいて最適に設定される必要がある。オートチューニングはそのパラメータの設定を自動的に決める機能のことを言う。
単相2線式 単相交流電力を電圧線1本・接地された無電圧の線1本、計2本の電線・ケーブルを用いて供給する低圧配電方式である。「単二」と通称される。
三相電源 3系統の交流電流または交流電圧でそれぞれ120度ずつ位相をずらしたもの。同じ送電電力ならば、3本それぞれの電流値が単相の比べて√3分の1小さくなるので、細い電線が使用できる。回転磁界が容易につくれるというメリットがある。
絶縁耐圧 絶縁体が物質破壊されない電位差のこと。製品出荷時の絶縁耐圧試験は交流1.5kV(機種により異なる)の高電圧を電気回路の導体と筐体(体地間)にかけ、基準値以上の漏れ電流が発生しないことで確認する。
絶縁抵抗 装置内の導体と筐体(対地間)の電気抵抗。製品出荷時の絶縁抵抗試験では、直流500V(または250V)の測定電圧で抵抗値が基準以上(1MΩなど機種により異なる)であることを確認する。
クリーンルーム 空気中の塵埃を除去することで空気清浄度が確保された部屋のこと。清浄空間での作業が必要となる半導体製造や、衛生確保のための食品製造の現場などに用いられる。その他、医療現場での細菌対策や放射能を扱う部屋での安全管理などのためにも導入される。工業用途の空気の清浄度は、主に米国連邦規格で表され、1立方フィートの空気中に含まれる0.5μm以上の大きさの粒子の数が用いられる。クリーンルームへの入退室の際には、二重扉になった場所での清浄空気のエアシャワーや足元の洗浄装置などで、徹底した粉塵の除去がなされる。
日本オゾン協会 特定非営利活動法人の一つ。健全な環境を保全、創出しようとする人及び団体に対して、自然界にも存在し又人工的にも製造でき、幅広い分野で応用されつつあるオゾン処理を中心とした酸化手段による環境浄化技術に関する情報収集、啓蒙、普及、適正化及び高度化のための事業を行い、より安全で快適な環境の保全と創出及び循環型社会の構築に寄与することを目的とする。
米国産業衛生専門家会議
(ACGIH)
米国産業衛生専門家会議などと訳されるが通常ACGIHのままで使われている。米国の産業衛生の専門家の組織。化学物質等の職業的許容濃度の勧告値や化学物質の発がん性の分類を公表しているが、その値は世界的に重要視されている。
日本産業衛生学会 社団法人日本産業衛生学会は、1929年に設立された、産業医学の進歩を図ることを目的とする学会である。
オゾン発生装置 オゾンを使用した、殺菌や脱臭を目的とする装置
オゾン分解装置 オゾンを分解することを目的とした装置

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